Chemisch-mechanische Poliermaschine
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Source: TED Europa
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer
- Status
- Closed
- Sector
- Chemical (Industrial), Education, Manufacturing (Industrial)
- Location
- Germany
- Updated
- 3 Nov 2026
- Source
- TED Europa
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Tender Information
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Status
Original status | contract notice |
Taiyo status | Closed |
Taiyo last update | 2026-11-03 |
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Description
Description | Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2 Die Vergabestelle behält sich vor Angebote über einem Gesamtauftragswert von 225.000,00 Euro netto von der Wertung auszuschließen. Liegen alle Angebote über dieser Grenze, ist die Vergabestel-le berechtig die Ausschreibung aufzuheben. |
Original sector | Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses) |
Location
Country | Germany |
Source
Source | TED Europa |
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More Details
Record type | Tender |
Sector | Chemical (Industrial), Education, Manufacturing (Industrial) |
Article published date | 2026-09-08 |
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