Hotplate zur Temperung großflächiger Substrate für Elektronenstrahllithografie
Sector: Chemical (Industrial) • Location: Germany
Source: TED Europa
Es soll eine halbautomatische Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für hochauflösende Elektronenstrahllithografie beschafft werden. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-bake chemisch verstärkter Resists, wie bspw. FEP171, bei denen die Empfindlichkeit wesentlich durch das Temperatur Zeit Profil und die Temperatur-Homo genität bestimmt wird. Zu prozessierend
- Status
- Closed
- Sector
- Chemical (Industrial), Education, Manufacturing (Industrial)
- Location
- Germany
- Updated
- 3 Nov 2026
- Source
- TED Europa
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Original status | contract notice |
Taiyo status | Closed |
Taiyo last update | 2026-11-03 |
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Description
Description | Es soll eine halbautomatische Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für hochauflösende Elektronenstrahllithografie beschafft werden. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-bake chemisch verstärkter Resists, wie bspw. FEP171, bei denen die Empfindlichkeit wesentlich durch das Temperatur Zeit Profil und die Temperatur-Homo genität bestimmt wird. Zu prozessierende Substrate umfassen u.a. 300mm-Wafer, sowie rechteckiger Glas-Substrate bis zu L x B x H = 300mm × 275mm × 15mm. Aus diesen technischen Randbedingungen ergeben sich die folgenden Anforderungen:, siehe Anlage 2. |
Original sector | Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses) |
Location
Country | Germany |
Source
Source | TED Europa |
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More Details
Record type | Tender |
Sector | Chemical (Industrial), Education, Manufacturing (Industrial) |
Article published date | 2026-04-14 |
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