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Hotplate zur Temperung großflächiger Substrate für Elektronenstrahllithografie

Sector: Chemical (Industrial) • Location: Germany

Source: TED Europa

Tender
Contract Notice

Es soll eine halbautomatische Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für hochauflösende Elektronenstrahllithografie beschafft werden. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-bake chemisch verstärkter Resists, wie bspw. FEP171, bei denen die Empfindlichkeit wesentlich durch das Temperatur Zeit Profil und die Temperatur-Homo genität bestimmt wird. Zu prozessierend

Status
Closed
Sector
Chemical (Industrial), Education, Manufacturing (Industrial)
Location
Germany
Updated
3 Nov 2026
Source
TED Europa

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The tender “Hotplate zur Temperung großflächiger Substrate für Elektronenstrahllithografie” is a tender record in Taiyo, linked to the Chemical (Industrial) sector. It is issued for works, goods, or services related to Germany.

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Status

Original status

contract notice

Taiyo status

Closed

Taiyo last update

2026-11-03

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Description

Description

Es soll eine halbautomatische Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für hochauflösende Elektronenstrahllithografie beschafft werden. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-bake chemisch verstärkter Resists, wie bspw. FEP171, bei denen die Empfindlichkeit wesentlich durch das Temperatur Zeit Profil und die Temperatur-Homo genität bestimmt wird. Zu prozessierende Substrate umfassen u.a. 300mm-Wafer, sowie rechteckiger Glas-Substrate bis zu L x B x H = 300mm × 275mm × 15mm. Aus diesen technischen Randbedingungen ergeben sich die folgenden Anforderungen:, siehe Anlage 2.

Original sector

Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)

Location

Country

Germany

Source

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TED Europa

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Record type

Tender

Sector

Chemical (Industrial), Education, Manufacturing (Industrial)

Article published date

2026-04-14

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